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國創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)、商標(biāo)注冊、專利申請、版權(quán)登記
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專利申請

專利申請文件中權(quán)利要求應(yīng)如何布局

2012/12/3 17:46:59

信息內(nèi)容

  我國專利法第五十九條第一款規(guī)定:“發(fā)明或者實用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn),說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容!笨梢,權(quán)利要求書是發(fā)明或者實用新型專利申請文件的核心部分,也是確定專利保護(hù)范圍的重要法律文件。本文中,筆者將圍繞“如何在權(quán)利要求書中對記載的各項權(quán)利要求進(jìn)行合理布局”進(jìn)行介紹。

  確定主題名稱

  一般情況下,在發(fā)明人提供的技術(shù)主題的基礎(chǔ)上,可以適當(dāng)考慮延伸技術(shù)主題的保護(hù)范圍,以形成更周密的保護(hù)網(wǎng)。具體而言,可以從并列型主題和拓展型主題的角度進(jìn)行延伸。所謂并列型主題,包括某方法及對應(yīng)某方法的產(chǎn)品、某產(chǎn)品及對應(yīng)某產(chǎn)品的制造/使用方法等情形;拓展型主題包括某方法及包括某方法的方法、某產(chǎn)品及包括某產(chǎn)品的產(chǎn)品等情形。采用拓展型主題進(jìn)行延伸,可以涵蓋產(chǎn)業(yè)鏈上更多節(jié)點,幫助專利權(quán)人更好地運用專利資產(chǎn)輔助商業(yè)運營。

  此外,發(fā)明點一般不宜體現(xiàn)在主題名稱中,否則容易造成劃界不清楚、特征重復(fù)等缺陷;功能或效果也不宜體現(xiàn)在主題名稱中,以避免出現(xiàn)對現(xiàn)有技術(shù)理解和把握不到位的問題。此外,對于主題名稱,還可以使用一些生僻的專業(yè)術(shù)語,以增加競爭對手的檢索難度。

  列出所有技術(shù)特征

  在理解技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,可以構(gòu)造特征樹,將技術(shù)特征以及技術(shù)特征之間的關(guān)系同時反映在特征樹中。對于產(chǎn)品類專利申請,其技術(shù)要素更多地體現(xiàn)在空間要素上。因此,在分析技術(shù)特征時,應(yīng)重視產(chǎn)品的組成部件及各組成部件之間的關(guān)系。對于方法類專利申請,其技術(shù)要素更多地體現(xiàn)在時間要素上。因此,在分析技術(shù)特征時,應(yīng)重視方法的組成步驟及各組成步驟之間的關(guān)系。

  選擇最接近的現(xiàn)有技術(shù),確定要解決的技術(shù)問題

  確定“要解決的技術(shù)問題”這項工作,有可能影響到將來形成的權(quán)利要求的保護(hù)范圍,因此要給予足夠重視。如何確定“要解決的技術(shù)問題”,筆者歸納了以下幾種情況:

  1.分析發(fā)明人提出的技術(shù)問題,針對該技術(shù)問題選擇對比文件(如專利說明書、技術(shù)資料、產(chǎn)品等);2.根據(jù)發(fā)明人提供的技術(shù)方案檢索到最接近的對比文件,重新確定技術(shù)問題;3.檢索到的對比文件已解決發(fā)明人所提出的技術(shù)問題,但對比文件中的技術(shù)方案不同于發(fā)明人的技術(shù)方案,則技術(shù)問題不變;4.發(fā)明人提供技術(shù)方案,在研究技術(shù)方案和現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上幫助發(fā)明人確定技術(shù)問題。

  篩選必要技術(shù)特征,形成獨立權(quán)利要求

  “獨立權(quán)利要求”要求的保護(hù)范圍應(yīng)適當(dāng),既要考慮授權(quán)需要,又要維護(hù)專利權(quán)人的最大利益。在實踐中,將“解決技術(shù)問題必不可少的技術(shù)特征”作為必要技術(shù)特征,從而形成獨立權(quán)利要求。此外,可以將必要技術(shù)特征中與現(xiàn)有技術(shù)不同的技術(shù)特征作為區(qū)別技術(shù)特征,以區(qū)分前序部分和特征部分。在撰寫完獨立權(quán)利要求后,可以從技術(shù)問題的角度和技術(shù)效果的角度進(jìn)行自查?傊,獨立權(quán)利要求中的技術(shù)問題、技術(shù)方案和技術(shù)效果應(yīng)相互對應(yīng),盡量刪除其中不必要的用語和限制。

  篩選附加技術(shù)特征,形成從屬權(quán)利要求

  在確定從屬權(quán)利要求時,獨立權(quán)利要求的技術(shù)方案與從屬權(quán)利要求的技術(shù)方案之間的層次不宜相差過大,在獨立權(quán)利要求和限定具體技術(shù)方案的從屬權(quán)利要求之間,應(yīng)設(shè)定對應(yīng)中間保護(hù)范圍的從屬權(quán)利要求。此外,應(yīng)將從屬權(quán)利要求中限定的技術(shù)特征落實到具體產(chǎn)品上,尤其是易取證的產(chǎn)品,這樣有利于應(yīng)對后續(xù)可能出現(xiàn)的專利侵權(quán)訴訟。根據(jù)從屬權(quán)利要求中附加技術(shù)特征與獨立權(quán)利要求中必要技術(shù)特征的關(guān)系,可以將從屬權(quán)利要求分為追加型和細(xì)化型。例如:

  1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,包括A和B。

  2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括C。

  3.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述A包括D和E。

  上述從屬權(quán)利要求2為追加型,即其中的附加技術(shù)特征C是在獨立權(quán)利要求的必要技術(shù)特征A和B的基礎(chǔ)上增加的技術(shù)特征。從屬權(quán)利要求3為細(xì)化型,即其中的附加技術(shù)特征D和E是對獨立權(quán)利要求中的必要技術(shù)特征A的進(jìn)一步限定。因此,可以從追加和細(xì)化兩個角度對從屬權(quán)利要求進(jìn)行布局。

  此外,在保證技術(shù)方案完整清楚的前提下,應(yīng)盡可能采用單特征限定的方式。仍以上述例子進(jìn)行說明,上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)還可以包括G或/和H,即增加以下兩個從屬權(quán)利要求:

  4.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括G。

  5.如權(quán)利要求1或4所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括H。

  需要強(qiáng)調(diào)的是,從屬權(quán)利要求應(yīng)盡可能地去引用獨立權(quán)利要求。(知識產(chǎn)權(quán)報 作者 董世蕊)


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